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国产套刻8nm光刻机引争议 部分关键指标不如ASML 2006年推出的干式DUV光刻机XT 1450，所以总体差距在15—20年

全新国产DUV光刻机曝光：“套刻≤8nm”是个什么水平？有人一看到“套刻≤8nm”就认为这是8nm光刻机，也是令人啼笑皆非。