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国产套刻8nm光刻机引争议 部分关键指标不如ASML 2006年推出的干式DUV光刻机XT 1450，所以总体差距在15—20年
日前，工信部印发的《首台(套)重大技术装备推广应用指导目录(2024年版)》（以...
全新国产DUV光刻机曝光：“套刻≤8nm”是个什么水平？有人一看到“套刻≤8nm”就认为这是8nm光刻机，也是令人啼笑皆非。
这两天不少网友都在热议工信部披露的新款国产氟化氩光刻机光刻机的消息，一时间，各种...